CVD化學氣相沉積碳鍍膜機主要用于光學鏡片表面真空鍍膜，又叫真空氣氛鍍膜機；該機高純石英罩和加熱爐體采用升降系統進行工作，可以減少人為接觸并提高生產效率，真空系統可以抽完爐內多余氣體保證管內在加熱過層中沒有混合氣體，加熱工作臺上有放置光學鏡片托盤層架，可以先將產品放入鍍膜托盤，在將托盤放入層架中；一次放入大量產品進行鏡片真空鍍膜，石英罩內通入反應氣體加熱分解成實驗所需化學氣體自動吸附在鏡片表面生成一種碳鍍膜。

CVD化學氣相沉積碳鍍膜機特點:

■ 采用多層隔板設計,批量處理模壓光學鏡片的碳鍍膜工藝,每爐可放數千個鏡片;

■ 智能化PLC程序升溫程序,真空程序,CVD進氣程序,操作簡單方便;

■ 優化干式真空泵,杜絕油液污染,可選擇國產干式泵和進口干式泵;

■ 智能化CVD進氣控制系統,適應于氮氣、乙炔/甲烷、氬氣、空氣的通入和混合;

■ 先進的密封系統,泄漏率低,長期使用穩定性高;

CVD化學氣相沉積碳鍍膜機詳細資料:

主要用途

■ 適用于模壓非球面光學玻璃鏡片的碳鍍膜工藝;

■ 適應于半導體行業晶圓表面薄膜生長;

■ 可用于陶瓷及單晶體表面沉積碳納米管工藝;

產品技術參數

產品型號:GS-30-700廣樹

使用溫度: 650℃;

使用氣氛: 氮氣、氬氣、空氣、二氧化碳、乙炔、甲烷、合氣體;

長期使用:400-700℃;

波 動 度: ±1℃;

顯示精度: 0.1℃;

均 勻 度: 容積30L;

進氣流量:三路MFC質量流量計控制,一路浮子流量計控制;

升降系統: 兩套伺服升降系統平臺;

控制系統:智能程序化PLC控制系統;

真空泵真空度: 極限真空1Pa;

腔內真空度:≤10Pa;

降溫要求:外置冷卻風機,降溫階段強制降溫;

整機功率: 18KW;

電 源 : 380V, 50Hz;

水冷裝置:高質量水冷機,PLC聯機控制

保護裝置: 過載、過流、過壓保護,接地,熱電偶異常報警,二次回路超溫報警保護裝置;冷卻水溫保護,壓力過載保護;

技術服務: 提供設備使用過程中的技術咨詢和支持,接到客戶故障通知3個工作時內立即響應。